Осциллятор для плазмотрона: Самодельный осциллятор для плазмореза | Все своими руками

Самодельный осциллятор для плазмореза | Все своими руками

Самодельный осциллятор для плазмореза

Эдуард Орлов Просмотров 1 022

Здравствуйте. Три года собирал запчасти для самодельного плазмореза и он уже почти готов, осталось собрать управление и опробовать плазму в деле. Сегодня расскажу про осциллятор для самодельного плазмореза.

Для розжига плазмы в плазмотроне необходим осциллятор. Осциллятор это устройство, которое в нужный момент создает высоковольтный импульс, который пробивает воздушный зазор и дает дуге возбуждение. Для моего плазмореза стараюсь все делать дубовей, без электроники, поэтому осциллятор будет такой же. Из многих вариантов схем осцилляторов, выбрал простейшую схему с трансформатором 50Гц и разрядником.

Схема осциллятора распространенная и проверенная многими самодельщиками, я только немного изменю ее под свои запчасти.


Силовой трансформатор на 1кВ найти не удалось, поэтому возьму трансформатор от микроволновки. Анодное напряжение 2кВ и что бы понизить его до 1кВ подключил последовательно первичке дроссель из такого же трансформатора с удаленной вторичкой. Благодаря дросселю  перестал греться высоковольтный(ВВ) трансформатор.  Выход вторички ВВ трансформатора с корпуса перенес на отдельную клему и закрепил на термоклей

Конденсатор 0.5мкФ  последовательно соединенные конденсаторы из микроволновки по 0.93мкФ 2Кв, 0,05мкФ использовал последовательно соединенные пленки 0.1мкФ 2кВ. По конденсаторам достаточный запас прочности по напряжению пробоя. Думаю лучше из зашунтировать керамикой на пару нанофарад

Разрядник изготовил на скорую из уголков,винтов и гаек. Для натяжки электрода пружина. Электрод разрядника не хило раскаляется и думаю, что нужны сплавы вольфрама, как указанно в оригинальной схеме.  Буду использовать этот разрядник с постоянной подстройкой, пока не найду вольфрам

Развязывающий трансформатор изготовил из феррита с кинескопа, обмотанный ХБ изолентой. Намотал 7 витков вторички и один виток первички. Закрепил на самодельный хомут обтянутый термоусадкой.

Для индикации работы установил медный разрядник на выходные клемы вторички с зазором где то 1,5-2мм.
Трещит эта штука ужасно, но работает, сразу почувствовался запах озона. Схема осциллятора проработала 5 минут и ничего не сгорело, не нагрелось. На разрядниках есть четкая искра, но пока это просто игрушка. Можно менять зазор в разряднике и добиваться разной частоты импульса, но без полной схемы плазмореза пока судить о чем то рано. После полной сборки плазмореза можно будет понять. А пока посмотрите видео с работой самодельного плазмореза с таким же осциллятором

Осциллятор к силовой части положу, осталось то мелочь, собрать управление. Три года собирал запчасти, еще немного подожду.

На этом пока все как соберу весь плазморез напишу отзыв о работе осциллятора. Что бы узнать первым об этом, подписывайтесь на обновления в социальных сетях, кнопки вверху страницы
С ув. Эдуард

Уважаемые читатели. Дело в том, что сборка моих проектов занимает очень много времени, не простительно много удерживаю средств из семейного бюджета и больше этого делать не буду. Если вам нравиться то, чем я тут занимаюсь и хотите продолжения, то прошу поддержки с вашей стороны. Будет поддержка, будет много нового(чертежи и схемы уже лежат).Поддержать можно тут

Типы и схемы источников питания. Схема возбуждения плазменной дуги

Схема возбуждения плазменной дуги Страницы: 1 2

Элементы электрической схемы источников питания плазмотрона рассмотрим в порядке их участия в процессе возбуждения дуги.

Осциллятор. Как и при обычной дуговой сварке неплавящимся электродом, при плазменной сварке могут использоваться параллельная (рис. 13, а, б) и последовательная (рис. 13, в) схемы включения осциллятора.

Преимуществом схемы с включением осциллятора между электродом и изделием (рис. 13, а) является возможность ее использования как для плазменной, так и для дуговой сварки. Однако эта схема требует применения защитного дросселя, рассчитанного на полный рабочий ток установки.

В схеме на рис. 13,6 через дроссель L протекает ток только дежурной дуги, поэтому дроссель может быть рассчитан на малые токи и малую величину ПВ.

При последовательном включении осциллятора также возможно его включение как в цепь электрода, так и в цепь сопла. Преимущества и недостатки обоих вариантов те же, что и при параллельном включении (дроссель в этом случае входит в схему осциллятора и на рис. 13,б не показан).


Рис. 13. Схемы возбуждения дуги: 1 — источник питания; 2—осциллятор; 3 — плазмотрон; 4 — изделие.

Емкость С во всех рассмотренных случаях служит для защиты источника питания от высокого напряжения осциллятора. При значительном удалении источника питания от плазмотрона рекомендуется устанавливать две защитные емкости — вблизи плазмотрона и непосредственно на зажимах источника питания.

Осциллятор рекомендуется размещать возможно ближе к плазмотрону для уменьшения уровня высокочастотных помех и предотвращения пробоя изоляции в цепях источника питания и схемы управления.

В установках плазменной обработки можно применять осцилляторы типа УПД, разработанные ОКБ Института электросварки им. Е. О. Патона АН УССР (для плазменной сварки и резки), ВИР Степанаванского завода ВЧЭО (для плазменной резки) и ВИС ленинградского завода «Электрик» им. Н. М. Шверника (для плазменной сварки). Могут быть также использованы осцилляторы типов ОСИ-300 и ОСИ-500. Применение осцилляторов типа ОСПЗ дает неудовлетворительные результаты из-за недостаточной мощности разряда.

Цепь дежурной дуги. Для возбуждения тока по цепи электрод — сопло при зажигании дежурной дуги сопло через токоограничительное сопротивление R (см. рис. 13, а и в) подключается к заземленному полюсу источника питания. После возбуждения основной дуги ток в ней приближается к нулю. Для предотвращения образования двойной дуги цепь дежурной дуги необходимо разорвать с помощью контактора К. Однако при микроплазменной сварке режим работы с постоянно горящей дежурной дугой является обычным.

Возможно и применение изображенной на рис. 13,6 схемы возбуждения дежурной дуги. В этом случае после пробоя промежутка электрод — сопло возникает импульс тока, обусловленный зарядом емкости С1 через сопротивление R1. После заряда емкости ток дежурной дуги падает до нуля, и происходит разряд емкости через сопротивление R2. После разряда емкости производится вторичный пробой промежутка, и импульс тока повторяется. Амплитуду, длительность и частоту следования импульсов можно изменять с помощью С1, R1 и R2.

Использование подобной схемы позволяет увеличить амплитуду тока дежурной дуги без возрастания его среднего значения, т. е. увеличить надежность возбуждения основной дуги без роста термического воздействия на электрод и сопло плазмотрона.

Источник питания (ИП) для плазменной обработки должен иметь крутопадающие характеристики. Они могут быть обеспечены следующими типами источников питания: выпрямителями, управляемыми дросселями насыщения, тиристорными выпрямителями с обратной связью по току, источниками питания на базе индуктивно-емкостных преобразователей и транзисторными источниками питания. В отдельных случаях могут использоваться сварочные генераторы, трансформаторы с рассеянием, балластные реостаты.

Сварочный аппарат плазменной резки (плазморез) Brima LGK 160 с машинным плазмотроном А-151

Сварочный аппарат плазменной резки (плазморез) Brima LGK 160 с машинным плазмотроном А-151 позволяет резать все черные и цветные металлы, чугун и сплавы. Резка производится путем расплавления и дальнейшего выдува из зоны реза расплавленного металла. Расплавление металла и дальнейший его выдув образуются за счёт энергии сжатой дуги (плазмой) и сжатого воздуха.  

  • Осциллятор аппарата, получающий питание от высокой частоты тока, не требует дополнительных устройств для его «раскачки», поэтому он мал в габаритах, а самое главное, более надёжен при поджиге дуги и практически не капризен к чистоте воздуха.
  • При выпрямлении тока на высокой частоте не наблюдается провалов по току и напряжению, поэтому дуга не теряет связь с разрезаемыми кромками, рез идёт очень уверенно, и практически вся энергия плазмы тратится на разрезание металла.
  • Отличные массогабаритные показатели, обеспечивающие применение в самых различных производственных условиях максимально мобильно и удобно.
  • Возможно внешнее управление высокочастотным поджигом дуги через двухштырьевой разъем для плазматрона.
  • Надежное заземление источника осуществляется благодаря наличию заземляющего провода в сетевом кабеле, а в случае отсутствия заземляющих контактов в самой сети, заземлять следует с помощью болта заземления, расположенного на задней панели источника.
  • Переключение между 2х- и 4х-тактными режимами. В 2х-тактном режиме резка производится при постоянном нажатии кнопки на держателе горелки. В 4х-тактном — нажать кнопку, чтобы провести резку, еще раз нажать кнопку чтобы прекратить резку.
  • Имеет регулятор режущего тока (потенциометр) с диапазоном от 20 до 160 А с четкой шкалой и понятным символьным обозначением.
  • Управление процессом реза осуществляется кнопкой на плазматроне.
  • На лицевой панели управления имеется цифровой дисплей, который отображает значение сварочного тока.
  • На лицевой панели расположен индикатор сети. Также имеется индикатор защиты, который срабатывает в результате перегрузки. Аппарат самостоятельно включится, когда температура внутри опустится до необходимого уровня.
  • Имеет отличный период нагрузки ПН=80% и класс защиты IP 21S.

LGK-160 BRIMA наиболее эффективен и экономичен по сравнению с процессом газовой резки. Скорость процесса резки примерно в 1,8 раза выше, чем при кислородной резке.

Комплектация:

  • Инверторный аппарат;
  • Резак плазменный;
  • Клемма заземления с кабелем и вставкой;
  • Паспорт и руководство по эксплуатации.

Таблица сравнения характеристик:

Эффективность связи генератора и анодные потери в зависимости от пластины…

Контекст 1

… рассчитать рабочую точку ВЧ. плазменной установки, для заданного значения постоянного напряжения на пластине V p 0 необходимо одновременно решать как гидродинамическую модель, так и модель цепи питания. Они связаны иерархическим алгоритмом, схематически представленным на рисунке 2. Процедура решения следующая: сначала решается гидродинамическая модель для данного начального предположения рассеиваемой мощности (P 0 ) в плазме и частоты генератора ( f ).Затем эквивалентный импеданс плазмы можно рассчитать с помощью уравнения (13). Затем вычисляются рассеиваемая мощность ( P 0 ) в плазме и частота ( f ), а новый импеданс плазмы пересчитывается с использованием P 0 и f в качестве входных данных для ВЧ. гидродинамическая модель разряда. Эта процедура повторяется до тех пор, пока ( P 0 ) и ( f ) не будут иметь постоянные сходящиеся значения. Расчеты проводились для той же геометрии факела (модель Tekna PL-50) с использованием более ранней компьютерной программы Мостафими и Булоса [6, 7]. Горелка имеет внутренний диаметр 50 мм, водоохлаждаемую керамическую трубку для удержания плазмы, окруженную пятивитковой индукционной катушкой.Плазменный газ представлял собой аргон со скоростью потока в горелку 150 л/мин в качестве защитного газа и 30 л/мин в качестве центрального газа в атмосферных условиях. На рис. 3 показан типичный установившийся сигнал триода, предсказанный моделью. Триод работает в условиях класса (С), в которых ВЧ. триодный ток протекает через трубку коротким импульсом, в течение угла ( c = 2 β c ) в противофазе с в.ч. напряжение триода; это приводит к высокому КПД триода. На рис. 4 показаны предсказанные ток пластины (I p 0 ) и ток катушки ( I c ) в зависимости от напряжения пластины (V p 0 ). Ток пластины и катушки увеличивается линейно по мере увеличения напряжения пластины. На рис. 5 представлены изолинии температурного поля в плазмотроне при напряжениях на пластине 6 кВ и 9 кВ. Соответствующие радиальные профили температуры в середине индукционной катушки (z = 100 мм) приведены на рис. 6. Как и ожидалось, увеличение напряжения на входной пластине приводит к увеличению инжектируемой мощности (P) с соответствующим увеличением объема область высоких температур в разряде.Положение максимальной температуры смещается к стенке камеры удержания плазмы в соответствии с более ранними наблюдениями Чена и Булоса [9]. Увеличение высокотемпературной области с увеличением напряжения на пластине приводит к соответствующему увеличению электропроводности в этой области разряда, как показано на рисунке 7. Эффект, в свою очередь, отражается на электрических параметрах плазменной горелки. На рис. 8 показано изменение эквивалентной индуктивности и сопротивления плазмотрона в зависимости от напряжения на пластине (V p 0 ). Отмечено, что индуктивность медленно падает при увеличении напряжения на пластине. Это связано с наблюдаемым увеличением высокотемпературной области и ее смещением ближе к стенке трубы удержания плазмы. Это приводит к увеличению поперечного сечения плазмы, через которое проходит магнитный поток, и соответствующему уменьшению пространства между катушкой и в.ч. разряд, ответственный за утечку потока. Реактивное сопротивление плазмы автоматически компенсируется контуром бака генератора, который регулирует свою частоту в соответствии с реактивной нагрузкой.Этому способствует регулировка индуктивности бака ( L 2 ) и коэффициента обратной связи по сетке ( k ). Однако, поскольку частота является функцией электрических параметров плазменной нагрузки, определяемой уравнением (14), ее значение варьировалось примерно на 1–2 % в зависимости от приложенной мощности. Эквивалентное сопротивление, с другой стороны, увеличивалось с увеличением напряжения пластины. Максимальный объем плазмы зависит от размера горелки. Увеличение объема означает более высокое сопротивление, в то время как более высокая средняя температура имеет противоположный эффект.Совместное влияние температуры плазмы и объема плазмы приводит к наблюдаемой более медленной скорости увеличения сопротивления плазмы с напряжением на пластине при высоких значениях напряжения на пластине. На рис. 9 показано изменение КПД генератора и анодных потерь в зависимости от напряжения на пластине. Как и ожидалось, анодные потери в триоде быстро возрастают с увеличением напряжения на пластине, что, в свою очередь, снижает эффективность генератора. Последний варьируется от 60 до …

Патент США на высокочастотную гибридную плазменную горелку с электромагнитными волнами Патент (Патент № 9,451,685, выдан 20 сентября 2016 г.)

ПЕРЕКРЕСТНАЯ ССЫЛКА НА РОДСТВЕННЫЕ ЗАЯВКИ

Эта заявка находится на национальной фазе под 35 U.SC §371 международной заявки на патент № PCT/KR2013/012252, поданной 27 декабря 2013 г. , в которой испрашивается приоритет и преимущество корейской патентной заявки № 10-2012-0154137, поданной 27 декабря 2012 г. содержание упомянутых заявок включено в настоящий документ посредством ссылки.

ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ

Настоящее изобретение относится к гибридной плазменной горелке электромагнитной волны/высокой частоты и, более конкретно, к гибридной плазменной горелке, способной вводить плазму, генерируемую электромагнитными волнами, в высокочастотную плазменную горелку.

УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ

Были разработаны и внедрены синтетические способы и устройства с использованием плазменных горелок с использованием электромагнитных волн и высокой частоты.

Патентный документ предшествующего уровня техники 1 (зарегистрированный патент Кореи № 10-0631828) раскрывает встроенную плазменную горелку с индуктивной связью, имеющую цилиндрическую структуру индукционной катушки.

Патентный документ предшествующего уровня техники 1 раскрывает конфигурацию, в которой двойные кольцеобразные каналы (23 и 24) получаются между внешней стенкой горелки и конструкцией индукционной катушки, а также между конструкцией индукционной катушки и трубой удержания плазмы путем образования индукционной Часть катушки высокочастотной плазменной горелки должна иметь цилиндрическую структуру индукционной катушки и коаксиально располагать цилиндрическую структуру индукционной катушки между внешней стенкой и трубкой удержания плазмы, а основные компоненты горелки изолированы во внешней стенке горелки, индукция структуру катушки и трубу удержания плазмы путем интеграции конструкции индукционной катушки и внешней стенки горелки через высокочастотный входной разъем для дополнительного выбора и использования оптимальных материалов и методов обработки для соответствующих компонентов горелки, тем самым улучшая производительность и экономичность. целесообразность факела.

Согласно такой обычной высокочастотной плазменной горелке, высокочастотная плазменная горелка может использоваться для плавления или испарения твердого порошка или распыляемой жидкости путем нагревания твердого порошка или распыляемой жидкости с использованием высокой температуры (8000 до 10 000 К) термическая плазма, образующаяся в широком и большом объеме в факеле, или используемая для увеличения термического крекинга или энтальпии путем нагревания газа. Поскольку такие задачи, как правило, выполняются в герметизирующей трубе, изготовленной из огнеупорного материала, способного выдерживать температуру 2000 К и более, или выполняются вне выхода из герметизирующей трубы для зажигания плазменных искр в виде струи, Частотная плазменная горелка использовалась в различных областях, таких как напыление материалов с высокой температурой плавления, синтез сверхтонких порошков, химическое осаждение из паровой фазы, сжигание отходов и термический крекинг, и ее применимость увеличилась в различных областях для разработки новых технологий.

Высокочастотные плазменные горелки, обладающие такими характеристиками, как безэлектродный разряд, большой объем, подходящая скорость газа и т.п., по-видимому, целесообразно применять в различных областях науки и промышленности. Однако отсутствие электродов вынуждает высокочастотный плазмотрон быть очень чувствительным к внешним возмущающим факторам, таким как поступление реагента в плазму. В действительности, когда количество реагента превышает заданное небольшое количество, приток реагента в плазму вызывает колебания плазмы, вызывающие быстрое гашение плазмы.Чувствительные характеристики такой высокочастотной плазмы служат возмущающим фактором при разлете в различные поля.

Поэтому не будет преувеличением сказать, что успех или неудача работы высокочастотного плазмотрона в различных областях особенно зависит от того, стабильно ли поддерживается плазма при инжекции реагента в плазму. Для этого при введении потока высокотемпературной (около 5000 К) и высокой плотности плазмы в область генерации высокочастотной плазмы может быть реализовано быстрое гашение высокочастотной плазмы, а неустойчивость, возникающая в результате быстрого гашения, может быть преодолен.

Соответственно, авторы настоящего изобретения провели исследование, признав такие проблемы, и разработали гибридную электромагнитную волну/высокочастотную плазменную горелку, способную осуществлять быстрое гашение высокочастотной плазмы и преодолевать нестабильность, возникающую в результате быстрого гашения, путем введения следующих конфигураций. для решения задач обычного высокочастотного плазмотрона.

ПРЕДШЕСТВУЮЩИЙ ДОКУМЕНТ Патентный документ

Патентный документ 1: KR10-0631828 B1

РАСКРЫТИЕ Техническая задача

Настоящее изобретение предназначено для решения проблем традиционной высокочастотной плазмы и Целью настоящего изобретения является создание плазменной горелки, способной осуществлять быстрое гашение высокочастотной плазмы и преодолевать нестабильность, возникающую в результате быстрого гашения.

Техническое решение

Для решения вышеупомянутых проблем, один аспект настоящего изобретения может раскрывать гибридную плазменную горелку электромагнитной волны/высокой частоты. Электромагнитная/высокочастотная гибридная плазменная горелка генератор электромагнитных волн, сконфигурированный для генерации электромагнитных волн, блок питания, сконфигурированный для подачи питания на генератор электромагнитных волн, линия передачи электромагнитных волн, сконфигурированная для передачи электромагнитных волн, генерируемых генератором электромагнитных волн. , первый блок подачи плазмообразующего газа, выполненный с возможностью нагнетания плазмообразующего газа, выпускную трубу электромагнитных волн, в которой плазма генерируется электромагнитными волнами, вводимыми из линии передачи электромагнитных волн, и плазмообразующий газ, вводимый из первой плазмы. — блок подачи формовочного газа, высокочастотная выпускная труба, через которую вводится электромагнитно-волновой плазменный поток из электромагнитно-волновой разрядной трубы, цилиндрическая конструкция индукционной катушки, коаксиальная с высокочастотной разрядной трубой и имеющая вставленную в нее индукционную катушку. , внешняя стена, выполненная в окружают структуру индукционной катушки, канал охлаждающей воды, через который охлаждающая вода вводится в трубу высокочастотного разряда и выводится из трубки высокочастотного разряда, и второй блок подачи плазмообразующего газа, через который плазмообразующий газ вводится в высокочастотный выпускной патрубок.

Кроме того, гибридная электромагнитная волна/высокочастотная плазменная горелка может дополнительно включать блок подачи реактивного газа, выполненный с возможностью подачи реактивного газа в высокочастотную выпускную трубу.

Кроме того, гибридная электромагнитная волна/высокочастотная плазменная горелка может дополнительно включать в себя медную трубу ввода/вывода высокой частоты, выполненную с возможностью ввода/вывода высокой частоты в/из конструкции индукционной катушки.

Дополнительно плазмообразующим газом может быть CO 2 , а реактивным газом может быть выбран из группы, состоящей из CH 4 , H 2 O и O 2 .

Кроме того, канал охлаждающей воды может включать в себя первый кольцеобразный канал охлаждающей воды между внешней стенкой и конструкцией индукционной катушки и второй кольцеобразный канал охлаждающей воды между конструкцией индукционной катушки и высокочастотным разрядом трубка. В этом случае первый канал охлаждающей воды и второй канал охлаждающей воды могут быть соединены и изолированы снаружи, так что охлаждающая вода, впрыскиваемая в одну боковую часть канала охлаждающей воды, может циркулировать по каналу охлаждающей воды для выпуска из другой. боковая часть канала охлаждающей воды.

Благоприятные эффекты

В соответствии с конфигурациями настоящего изобретения, как описано выше, когда поток высокотемпературной (приблизительно 5000 К) и высокой плотности плазмы вводится в область генерации высокочастотной плазмы, быстрое гашение высокочастотной может быть реализована частотная плазма, и может быть преодолена неустойчивость, возникающая в результате быстрого гашения.

ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

РИС. 1 представляет собой функциональную блок-схему гибридной плазменной горелки электромагнитной волны/высокой частоты согласно примерному варианту осуществления настоящего изобретения.

РИС. 2 представляет собой схематический вид гибридной электромагнитной волны/высокочастотной плазменной горелки согласно примерному варианту осуществления настоящего изобретения.

НАИЛУЧШИЙ РЕЖИМ

Далее будет подробно описана гибридная плазменная горелка электромагнитной волны/высокой частоты согласно одному примерному варианту осуществления настоящего изобретения со ссылкой на прилагаемые чертежи. Настоящее изобретение может быть модифицировано в различных формах и иметь различные варианты осуществления, поэтому его конкретные варианты осуществления будут проиллюстрированы на прилагаемых чертежах и описаны в подробном описании.Однако следует понимать, что приведенное здесь описание не предназначено для ограничения настоящего изобретения и охватывает все модификации, эквиваленты и замены, не выходящие за рамки сущности и объема настоящего изобретения. В описании деталей, показанных на прилагаемых чертежах, одинаковые номера относятся к одинаковым элементам. На прилагаемых чертежах размеры элементов могут быть увеличены или уменьшены для удобства описания.

Хотя термины первый, второй и т.могут использоваться для описания различных элементов, эти элементы не ограничиваются этими терминами. Эти термины используются только для того, чтобы отличить один элемент от другого. Например, первый элемент может быть назван вторым элементом, и аналогичным образом второй элемент может быть назван первым элементом, не выходя за рамки иллюстративных вариантов осуществления.

Используемая здесь терминология предназначена только для описания конкретных вариантов осуществления и не предназначена для ограничения примерных вариантов осуществления.Формы единственного числа «a», «an» и «the» также включают формы множественного числа, если контекст явно не указывает на иное. Кроме того, следует понимать, что термины «содержит», «содержащий», «включает» и/или «включающий в себя», когда они используются в данном документе, определяют наличие заявленных признаков, целых чисел, этапов, операций, элементов, компонентов и/или комбинаций. из них, но не исключают наличия или добавления одного или нескольких других признаков, целых чисел, шагов, операций, элементов, компонентов и/или их комбинаций.

Если не указано иное, все используемые здесь термины (включая технические и научные термины) имеют то же значение, которое обычно понимается специалистом в области, к которой относится настоящее изобретение. Кроме того, следует понимать, что термины, такие как те, которые определены в обычно используемых словарях, должны интерпретироваться как имеющие значения, которые согласуются с их значениями в контексте соответствующей области техники, и не должны интерпретироваться в идеализированном или чрезмерно формальном смысле. если иное прямо не определено в настоящем документе.

Генератор плазменной горелки на электромагнитных волнах раскрыт в корейском патенте № 10-0394994, патент на который был зарегистрирован этим заявителем и все содержание которого включено в настоящий документ посредством ссылки.

РИС. 1 представляет собой функциональную блок-схему гибридной плазменной горелки электромагнитной волны/высокой частоты согласно примерному варианту осуществления настоящего изобретения.

Электромагнитная/высокочастотная гибридная плазменная горелка 100 может включать генератор электромагнитных волн 120 для генерации электромагнитных волн, блок питания 110 для подачи питания на генератор электромагнитных волн, линию передачи электромагнитных волн 130 для передачи электромагнитных волн, генерируемых генератором электромагнитных волн, первый блок подачи плазмообразующего газа 170 для подачи плазмообразующего газа, трубка отвода электромагнитных волн 150 , в которой плазма генерируется электромагнитными волнами вводимого из линии передачи электромагнитных волн 130 и плазмообразующего газа, вводимого из первого блока подачи плазмообразующего газа, высокочастотной разрядной трубы 160 , через которую вводится электромагнитно-волновой поток плазмы из электромагнитно-волнового разряда труба, конструкция индукционной катушки re 111 , который соосен с высокочастотной выпускной трубой и имеет вставленную в него индукционную катушку, внешнюю стенку, окружающую структуру индукционной катушки, канал охлаждающей воды 190 , через который охлаждающая вода вводится в высокочастотную выпускную трубу. и выбрасывается из трубки высокочастотного разряда, и второй блок подачи плазмообразующего газа 180 , через который плазмообразующий газ вводится в трубку высокочастотного разряда.

Кроме того, гибридная электромагнитная волна/высокочастотная плазменная горелка 100 может дополнительно включать блок подачи реактивного газа 140 для нагнетания реактивного газа в высокочастотную выпускную трубу.

Кроме того, гибридная плазменная горелка электромагнитной волны/высокой частоты 100 может дополнительно включать медную трубу 112 для ввода/вывода высокочастотного сигнала для ввода/вывода высокой частоты в/из конструкции индукционной катушки.

Дополнительно плазмообразующим газом может быть CO 2 , а реактивным газом может быть выбран из группы, состоящей из CH 4 , H 2 O и O 2 .

Кроме того, канал охлаждающей воды 190 может включать в себя первый кольцеобразный канал охлаждающей воды, расположенный между внешней стенкой и конструкцией индукционной катушки, и второй кольцеобразный канал охлаждающей воды, расположенный между конструкцией индукционной катушки и высоким -частотный выпускной патрубок. В этом случае первый канал охлаждающей воды и второй канал охлаждающей воды могут быть соединены и изолированы снаружи, так что охлаждающая вода, впрыскиваемая в одну боковую часть канала охлаждающей воды, может циркулировать вдоль канала охлаждающей воды и отводиться в другую. боковая часть канала охлаждающей воды.

Блок питания 110 может, например, состоять из двухполупериодного умножителя напряжения и устройства импульсного и постоянного тока (DC) для подачи питания на генератор электромагнитных волн 120 .

Магнетрон для генерации электромагнитных волн в полосе частот от 10 МГц до 10 ГГц может использоваться, например, в качестве генератора электромагнитных волн 120 .

Линия передачи электромагнитных волн 130 является своего рода волноводом и сконфигурирована для передачи электромагнитных волн в выпускную трубу электромагнитных волн 150 .

Выпускная труба электромагнитных волн 150 устанавливается через линию передачи электромагнитных волн 130 для создания пространства, в котором плазма генерируется электромагнитными волнами, поступающими через линию передачи электромагнитных волн 130 . Например, первый блок подачи плазмообразующего газа 170 подает газ для формирования плазмы, такой как двуокись углерода (CO 2 ), в выпускную трубу 150 электромагнитных волн.

В выпускной трубе электромагнитных волн 150 плазма генерируется электромагнитными волнами, и генерируемая плазма вводится в высокочастотную выпускную трубу 160 , соединенную с выпускной трубой электромагнитных волн.

Охлаждающая вода, подаваемая по каналу охлаждающей воды 190 , циркулирует между внешней стенкой, конструкцией индукционной катушки 111 и высокочастотной выпускной трубой 160 для охлаждения наружной стенки, конструкцией индукционной катушки 111 , и высокочастотный выпускной патрубок 160 .

Например, реактивный газ, такой как CH 4 , H 2 O или O 2 , может быть введен в высокочастотную выпускную трубу 160 через блок подачи реактивного газа 140 .

Конструкция индукционной катушки 111 может включать индукционную катушку, окружающую высокочастотную выпускную трубу 160 в форме кольца.

Когда высокая частота подается в индукционную катушку через высокочастотную медную трубу ввода/вывода 112 , высокочастотный ток может образовывать плазму в высокочастотной разрядной трубе с использованием индукционного нагрева, вызванного вихревым током в соответствии с к закону Фарадея и закону Ампера.

РИС. 2 представляет собой схематический вид гибридной плазменной горелки электромагнитной волны/высокой частоты , 200, согласно примерному варианту осуществления настоящего изобретения.

Когда питание подается от блока питания на генератор электромагнитных волн, электромагнитные волны могут генерироваться генератором электромагнитных волн, а электромагнитные волны, генерируемые генератором электромагнитных волн, могут передаваться через линию передачи электромагнитных волн 230 .Как показано на фиг. 2, линия передачи электромагнитных волн , 230, может представлять собой волновод, имеющий конструкцию, в которой вход, через который вводятся электромагнитные волны, изогнут под углом от 0° до 90°.

Например, плазмообразующий газ, такой как CO 2 , может быть введен в выпускную трубу электромагнитных волн 250 через первый блок подачи плазмообразующего газа 270 .

Как показано на РИС. 2, выпускная труба , 250 электромагнитных волн может быть сформирована в форме кольца через линию передачи электромагнитных волн 230 , а плазма может генерироваться электромагнитными волнами, введенными из выпускной трубы , 250 электромагнитных волн в электромагнитную волну. линия 230 передачи, и плазмообразующий газ, нагнетаемый из первого блока подачи плазмообразующего газа.

Линия передачи электромагнитных волн 230 может иметь закрытый конец для отражения передаваемых электромагнитных волн. Например, наиболее сильное электрическое поле может быть сформировано в трубе для выпуска электромагнитных волн путем прохождения трубы , 250, для выпуска электромагнитных волн через конец линии , 230 передачи электромагнитных волн на расстоянии ¼ длины волны.

Поскольку выпускная трубка электромагнитных волн 250 и высокочастотная выпускная трубка 260 соединены, плазма, образующаяся в выпускной трубке электромагнитных волн 250 , вводится в высокочастотную выпускную трубку 260 .

Кольцевая индукционная катушка 211 выполнена коаксиальной с высокочастотной выпускной трубой 260 . Индукционная катушка 213 вставлена ​​в конструкцию индукционной катушки 211 по оси, перпендикулярной высокочастотной выпускной трубе 230 .

Внешняя стенка 210 окружает конструкцию индукционной катушки 211 .

Охлаждающая вода вводится в выпускной трубопровод ВЧ и отводится из выпускного трубопровода ВЧ через каналы охлаждающей воды d , чтобы охлаждающая вода циркулировала между внешней стенкой, конструкцией индукционной катушки 211 и высокочастотной выпускной трубой 260 для охлаждения внешней стены, конструкцией индукционной катушки 211 и высокочастотной выпускная труба 260 .

канал охлаждающей воды 290 A , 29097, 2 B , 290 , 290 C и включают в себя первую кольцевую охлаждающую воду канал 290 C наружная стенка 210 и конструкция индукционной катушки 211 , а также второй кольцеобразный канал охлаждающей воды 290 d между конструкцией индукционной катушки 211 и высокочастотной выпускной трубой 260

.

В этом случае первый канал охлаждающей воды 290 c и второй канал охлаждающей воды 290 d соединены и изолированы снаружи, так что охлаждающая вода впрыскивается в одну боковую часть 290 a из канал охлаждающей воды может циркулировать вдоль канала охлаждающей воды для выпуска из другой боковой части 290 b канала охлаждающей воды.

Высокочастотный ток может подаваться в конструкцию индукционной катушки 211 через медную трубу высокочастотного ввода/вывода 212 , чтобы высокочастотный ток мог образовывать плазму в высокочастотной разрядной трубе с использованием индукционного нагрева, вызванного вихревым током по закону Фарадея и закону Ампера.Например, второй блок подачи плазмообразующего газа 280 может подавать газ для формирования плазмы, такой как двуокись углерода (СО 2 ), в высокочастотную выпускную трубу 260 .

Например, реактивный газ, такой как CH 4 , H 2 O или O 2 , может быть введен в высокочастотную выпускную трубу 260 через блок подачи реактивного газа 240 .

Описание иллюстративных вариантов осуществления, представленных здесь, предоставлено для того, чтобы позволить специалистам в данной области техники реализовать и применить настоящее изобретение на практике.Различные изменения и модификации, внесенные в эти иллюстративные варианты осуществления, будут очевидны специалистам в области техники, к которой относится настоящее изобретение, и определенные здесь общие принципы будут применяться к другим иллюстративным вариантам осуществления, не выходя за рамки объема настоящего изобретения. Соответственно, настоящее изобретение не ограничивается представленными здесь иллюстративными вариантами осуществления, но должно интерпретироваться в широком диапазоне в соответствии с представленными здесь принципами и новыми характеристиками.

Plasma Torch – обзор

(i)

Глинозем: Большинство исследований с использованием обычных плазменных горелок было посвящено получению покрытий с более низким коэффициентом трения, чем у покрытий APS [56–58]. Добавление SiC в матрицу оксида алюминия позволило снизить коэффициент трения покрытия [59]. Также сравнивались суспензионные покрытия, нанесенные с помощью обычных плазменных процессов и процессов напыления HVSFS [60]. Брусс и др. [61] использовали алюминий и суспензии оксида алюминия и проверили, как металлическая матрица и очень небольшое количество включений оксида алюминия изменяют отражательную способность и удельное сопротивление покрытий.

(ii)

Глинозем-цирконий и композиты: Плазменное напыление суспензии s использовалось с плазменной горелкой Axial III для осаждения псевдоэвтектической композиции оксида алюминия-YSZ в качестве потенциального ТБК [29,60, 62]. Скорость частиц была найдена как решающий параметр, определяющий кристаллическую структуру получаемых покрытий. С помощью обычной плазменной горелки были получены тонкоструктурированные слои Al 2 O 3 -ZrO 2 с большим разнообразием архитектур [58].

(iii)

Глинозем-титан: Darut et al. В работе [63] показано, что покрытия из суспензий с субмикронными частицами Al 2 O 3 -TiO 2 демонстрируют более высокие характеристики, чем покрытия из суспензий с частицами микрометрового размера. При увеличении содержания TiO 2 также увеличивалось содержание соединений Al x TiO y или Al 2 TiO 5 .

(iv)

Биостекло: Биоактивные стеклянные покрытия, нанесенные методом плазменного напыления суспензии, изучались для улучшения адгезии между ортопедическими имплантатами и костью [64,65].

(v)

Гидроксиапатит: Ca 10 (PO 4 ) 6 (OH) 2 суспензию титана распыляли на воду, а получали плазменным распылением в виде порошка титана субстрат [66]. Хуанг и др. [67] использовали новый процесс плазменного напыления жидкого прекурсора для нанесения покрытий Si, Mg и карбоната HA (отдельно или совместно) на подложки Ti6Al4V.

(vi)

Инструмент для горячей экструзии: Различные оксидные керамики были смешаны и приготовлены в одной суспензии и подвергнуты плазменному напылению для получения покрытий с низким коэффициентом трения в условиях сухого скольжения [68]. Титан и хром показали различное поведение при трибологических испытаниях прессованных сплавов на основе алюминия и меди.

(vii)

ТОТЭ: Было выполнено много работ по осаждению с использованием плазменной суспензии, распыляющей в основном электролит [45,69,70], а также анод [70,71] и катод [72] ТОТЭ.Для электролита при использовании плазмотрона Axial III [45, 69] были получены плотные покрытия (см. раздел 3.5.4.vii). Однако контроль покрытия во время напыления был важен, чтобы избежать вертикальных трещин из-за высокого теплового потока, приносимого плазменной струей [69]. Также использовались обычные горелки [72], но электролитные покрытия были менее плотными. Анод (Ni-YSZ) был напылен с помощью плазменной горелки Axial III [70,71]. Добавление сажи к суспензии контролировало общую пористость покрытия, а также скорость подачи суспензии.Размер частиц NiO в суспензии влиял как на состав, так и на общую пористость покрытий [71]. Куглиетта и др. [70] вводили аксиально многокомпонентную водную суспензию CuO, Co 3 O 4 и NiO и радиально сухой порошок SDC. В зависимости от условий обработки SDC и металлическая фаза могут быть либо очень хорошо перемешаны, либо наслаиваться. Ван и др. [72] распылили с помощью обычной плазменной горелки суспензию La 0,8 Sr 0,2 MnO 3 (LSM) и получили удельное поверхностное сопротивление, равное 0.45 Ом см 2 при 950 °C.

(viii)

TBC: Результаты Guignard et al. [42] для термобарьеров YSZ, напыленных с помощью горелки Triplex, представлены в разделе 3. 5.4.vi. Гонг и др. [73] распыляли с помощью обычной плазменной горелки суспензии порошка YSZ в этаноле, в которых перед плазменным напылением растворяли нитраты редкоземельных элементов.

(ix)

Титан: Титан используется из-за его износостойкости (фаза рутила) или фотокаталитических свойств (фаза анатаза).Плотные покрытия получали, исходя из водных суспензий, а пористые — из спиртовой суспензии, но в последней важную роль играло превращение анатаза в рутил [74]. Мауэр и др. [75] добавили TiN в порошок анатаза для повышения фотокаталитической активности. К сожалению, для растворения азота в решетке TiO 2 необходимы параметры горячего распыления и исходный анатаз в основном превращается в рутил.

(x)

YSZ: Kozerski et al.[76] с помощью обычной плазменной горелки наносили покрытия с теплопроводностью ниже 1 Вт/м·К. Darut et al. [56], также с обычной плазменной горелкой, показали, что трибологические характеристики были улучшены по сравнению с обычными покрытиями. Добавление частиц SiC в суспензию привело к повышению износостойкости. Waldbillig и Kesler [77] с помощью плазменной горелки Axial III оптимизировали условия распыления для получения плотных покрытий с хорошей эффективностью осаждения. Верт и др. [78] показали, что тонкий (< 100 мкм) наноструктурированный слой YSZ, напыленный обычной горелкой на гладкую поверхность ( R a ~ 0.5 мкм) и тонкие листы Haynes 230 (толщиной 1 мм) позволили нанести обычное покрытие YSZ с приемлемой прочностью сцепления при растяжении от 12 до 24 МПа, в зависимости от условий распыления и толщины слоя СПС.

(xi)

YAG: Zhao et al. [79] распыляли с помощью плазмотрона Axial III суспензию Y 2 O 3 и Al 2 O 3 с мольным соотношением Y-Al = 5:3 в дистиллированной воде. Они показали, что высокая мощность горелки и короткое расстояние между электродами приводят к получению покрытия с высокой плотностью и твердостью.

(xii)

Иттрия: Покрытия на основе оксида иттрия (Y 2 O 3 ), полученные методом плазменного напыления в осевой подвеске, обладающие высокой плотностью, однородной структурой, высокой твердостью, высокой стойкостью к плазменной эрозии и сохранение более гладкой поверхности после плазменной эрозии [80].

Глоссарий терминов ICP


Матричные детекторы
Матричный детектор представляет собой кремниевый чип с одно- или двумерным массивом светочувствительного материала на его поверхности.Фотоны ударяются о светочувствительные области, называемые пикселями, и преобразуются в электроны, которые собираются и считываются в виде заряда. Примеры матричных детекторов включают в себя фотодиодные матрицы (PDA), устройства с зарядовой связью (CCD), устройства ввода заряда (CID) и устройства с зарядовой связью на основе сегментированных матриц (SCD).
​Автосемплер
​Устройство, которое автоматически определяет последовательность доставки образцов и/или стандартных растворов в ICP. Автосэмплеры значительно различаются.Система должна вмещать большие виалы для образцов для стандартов и дополнительные размеры для образцов в зависимости от аналитических требований. Автосэмплер должен иметь «произвольный доступ», позволяя оператору программировать такие функции, как логика (т. е. что делать, если стандарт контроля качества не работает) и позиционирование образца/стандарта.
Аксиальный вид
Аксиальный просмотр — это позиционирование горелки ИСП таким образом, что спектрометр видит плазму торцом. Обычно резак располагается горизонтально для осевого обзора.При правильной настройке аксиальный обзор обеспечивает увеличение чувствительности, обычно в 5-20 раз больше, чем радиальный обзор.
Коррекция фона
​Это метод спектральной коррекции, который компенсирует повышенный фоновый сигнал на длине волны анализируемого вещества. Приборы измеряют фон в одной или нескольких точках, немного смещенных от пика длины волны излучения, а затем вычитают фон из общей интенсивности, измеренной на аналитической длине волны.​
Эквивалентная концентрация фона (BEC)
​Определяется как кажущаяся концентрация фонового сигнала на основе чувствительности элемента на заданной длине волны. Чем ниже значение BEC, тем легче отличить сигнал, генерируемый элементом, от фона. Многие аналитики считают, что БЭК является более точным показателем производительности системы ИСП-ОЭС, чем предел обнаружения, особенно при сравнении методов коррекции фона.См. «Коррекция фона».
Фоновый шум
Фоновый шум представляет собой точность измерения фонового сигнала на длине волны анализируемого вещества и обычно определяется путем извлечения квадратного корня из спектрального фона прибора (по интенсивности излучения) . См. «Предел обнаружения».
Сдвиг фона
​Это изменение интенсивности излучения на длине волны аналита из-за какой-либо другой спектральной характеристики, отличной от аналита.
Blaze
Решетки Echelle и решетки с механическим управлением оптимизированы («полые»), чтобы быть более эффективными вблизи определенных длин волн, что определяется углом наклона канавки, вытравленной/вырезанной на поверхности. Поскольку большинство линий, используемых в ICP, имеют относительно короткие длины волн, решетки часто светятся в районе 200–250 нм, «синем» конце спектра. Голографические решетки не обжигаются в традиционном смысле, потому что этот процесс основан на фотолитографии.Решетки Echelle спроектированы для всех длин волн
Размытие
Эффект, известный как размытие, возникает, когда качество изображения на краю CTD-детектора хуже, чем качество изображения в центре, где оптимум ( blaze) длина волны падает. Размытие влияет на практическое разрешение детектора и будет отличаться от теоретического разрешения, если размытие сильное. Размытие измеряется путем сравнения теоретического разрешения с практическим разрешением. Соотношение должно быть как можно ближе к 1:1.
​Claibration Curve
​График или уравнение, построенное с использованием калибровочных стандартов и бланка, которое определяет взаимосвязь между концентрацией элемента и интенсивностью сигнала, создаваемого на интересующей длине волны. Это соотношение используется для определения концентрации аналита в неизвестных образцах.
Устройство с зарядовой связью (ПЗС)
Устройство с зарядовой связью представляет собой двухмерный матричный детектор, который считывает заряд, накопленный на светочувствительной поверхности, последовательно перемещая его вниз к следующему ряду пикселей перед зачитывается.Недостатком ПЗС-технологии является то, что заряд теряется при считывании накопленного заряда на детекторе. Разновидностью ПЗС является SCD (сегментированное матричное устройство с зарядовой связью).
Устройство ввода заряда (CID)
Устройство ввода заряда представляет собой двухмерный матричный детектор, который считывает заряд, накопленный на светочувствительной поверхности, и затем сохраняет его, вводя в кремниевую подложку. Преимущество технологии CID заключается в том, что заряд не уничтожается после считывания, что позволяет запрашивать данные в любое время.
Устройство переноса заряда (CTD)
Устройство переноса заряда — это общее название, данное твердотельному детектору, который может использоваться в спектрохимических приложениях для преобразования фотонов в электрическую энергию.
Охлаждаемая распылительная камера
Распылительная камера охлаждается для поддержания постоянной температуры аэрозоля пробы. Для беспроблемной аспирации органических образцов температура снижается с помощью охлаждающего устройства Пельтье, чтобы уменьшить количество растворителя, попадающего в плазму.
Генератор с кварцевым управлением (ВЧ)
​Это класс радиочастотных (ВЧ) генераторов, в которых для управления рабочей частотой используется принцип колеблющегося кварцевого источника. См. «Автономный (ВЧ) генератор».
Спектрометр Черни-Тернера
Это конструкция сканирующего монохроматора, в которой используются два коллимирующих зеркала и управляемая шаговым двигателем линейчатая или голографическая дифракционная решетка.Когда падающий свет от плазмы падает на решетку, он разделяется на составляющие его длины волны света, соответствующие элементам, присутствующим в образце. Интересующий элемент выбирается путем перемещения решетки небольшими шагами, чтобы сфокусировать выбранную спектральную линию излучения на выходной щели с детектором фотоумножителя (ФЭУ) за ней.
Съемная горелка Съемная горелка представляет собой горелку для ИСП, в которой три концентрические трубки (инжекторная трубка, кварцевая внутренняя и кварцевая внешняя трубки) не соединены друг с другом постоянно.См. «Плазменная горелка». Пределы обнаружения: См. «Пределы обнаружения прибора».
Детекторы
Детекторы в ИСП-ОЭС представляют собой устройства, преобразующие световую энергию (фотоны) плазмы в электрическую энергию. Примерами являются фотоумножители (ФЭУ) и устройства переноса заряда (CTD).
​Дифракционная решетка
​Дифракционная решетка представляет собой оптический компонент с множеством точно расположенных, протравленных или размеченных канавок на отражающей поверхности.Решетки используются для рассеивания света в соответствии с длиной волны и/или спектральным порядком. , между комплектом из двух или трех электродов. Технология DCP имела много ограничений, связанных с ее более низкой температурой по сравнению с ICP, и сегодня недоступна для коммерческого использования.
​Дисперсия
​Это мера того, насколько хорошо длины волн от ИСП-спектрометра разделены в пространстве вдоль фокальной плоскости. Обычно выражается как «линейная дисперсия» в нм/мм, чем ниже это значение, тем лучше дисперсия. Существует важная взаимосвязь между разрешением, дисперсией и количеством энергии, достигающей детектора: разрешение (в нм) прямо пропорционально дисперсии и размеру изображения в первичной щели. Энергия (света на детекторе) прямо пропорциональна размеру изображения, сфокусированного на детекторе, который, в свою очередь, зависит от ширины входной щели. Меньшая ширина входной щели дает меньшее (лучшее) разрешение, но уменьшает количество света, достигающего детектора.Оптика с более высокой дисперсией сможет достичь лучшего разрешения с более широкими входными щелями. См. разделы «Входная щель» и «Выходная щель».
Двухходовая распылительная камера
Распылительная камера, состоящая из внутренней (центральной) трубы внутри основного корпуса распылительной камеры. Капли меньшего размера выбираются путем направления аэрозоля из распылителя в центральную трубку. Аэрозоль выходит из трубки, где более крупные капли выпадают (под действием силы тяжести) через дренажную трубку в задней части распылительной камеры.Затем более мелкие капли возвращаются между внешней стенкой и центральной трубкой в ​​инжектор образца плазменной горелки. Наиболее распространенным типом двухпроходной распылительной камеры является конструкция Скотта. Динамический диапазон: диапазон концентраций, в котором калибровочная кривая является линейной. Обычно он выражается в виде порядков величины и является мерой максимальной концентрации, которую можно измерить при определенной длине волны анализируемого вещества. ICP обеспечивает до 6 порядков линейности (от низких до высоких уровней ppm).
Решетка Эшелле
Решетка Эшелле представляет собой дифракционную решетку с точной линейкой, используемую в ИСП-спектрометрии, которая использует очень большие углы падения, очень низкую плотность штриховки (бороздки/мм) и обеспечивает использование высоких порядков дифракция, обычно в диапазоне 20-120-го порядка, с использованием призмы в качестве 2-й дисперсионной оптики. Основные преимущества решеток Эшелле для ИСП-ОЭС заключаются в том, что они обеспечивают оптимальное сочетание разрешения, дисперсии и высокой светопропускной способности для многоэлементного обнаружения на небольшом CTD-детекторе.
Интенсивность излучения
​Это измерение количества света (фотонов) на заданной длине волны (линии излучения), излучаемого спектральным источником, таким как ICP.
Входная щель
Узкая щель, через которую свет попадает в спектрометр. Размер входной щели будет определять разрешающую способность спектрометра.
​Возбуждение
​Это процесс, при котором электрон переходит на более высокий энергетический уровень, в результате чего атом или ион находятся в возбужденном состоянии.
Потенциал возбуждения
​Это мера количества энергии, необходимой для продвижения электрона в атоме на более высокий энергетический уровень. Это возбужденное состояние необходимо для того, чтобы атом излучал свет. Различные элементы имеют разные потенциалы возбуждения в зависимости от их электронной конфигурации.
Выходная щель
Узкая щель, через которую свет выходит из спектрометра до того, как система обнаружения преобразует его в электрический ток.Размер выходной щели определяет разрешение спектрометра.
​Фиксированная оптика
​Фиксированная оптика не двигается, как во всех эшельных последовательных и одновременных спектрометрах прямого отсчета. Подвижная оптика, такая как те, что используются во всех спектрометрах с поиском пиков (например, Черни-Тернера), по своей природе нестабильна и требует интегрирования в нескольких точках для получения правильных данных о длине волны пика. Это приводит к увеличению времени анализа и неправильной идентификации длины волны пика.Фиксированная оптика интегрируется непосредственно в момент пика и поэтому не подвержена подводным камням, связанным с подвижной оптикой.
Автономный (ВЧ) генератор
Это класс радиочастотных (ВЧ) генераторов, которые используют электронные константы своих компонентов схемы для определения и управления рабочей частотой без использования внешние триггеры, такие как колебательный кварцевый блок.
Фокусное расстояние
Оптический элемент (например,г. зеркало, призма, линза или изогнутая решетка), которые фокусируют свет на выходных щелях. Фокусное расстояние — это расстояние от оптического элемента до точки фокусировки. В первые дни разработки спектрометров увеличение фокусного расстояния (и, следовательно, длины и размера прибора) было единственным способом улучшить разрешение. Усовершенствованные методы производства решеток устранили это требование, позволив создавать компактные инструменты, которыми мы пользуемся сегодня.
Решетка
Решетка — это оптический элемент, рассеивающий свет. Решетки Echelle обеспечивают исключительно высокое разрешение, дисперсию и светопропускную способность. Обычные решетки изготавливаются путем механической обработки вогнутых заготовок или с помощью методов голографического воспроизведения. Вогнутые линейчатые и голографические решетки обычно не идут ни в какое сравнение по оптическим характеристикам с решетками Эшелле.
​Плотность решетки
​ Количество линий или канавок на единицу длины дифракционной решетки, обычно выражаемое в линиях/мм или канавках/мм.Чем выше плотность решетки, тем больше рассеивание света, дифрагированного решеткой.
Привод решетки
Привод решетки — это механизм, используемый для перемещения решетки последовательными спектрометрами без фиксированной оптики. Обычные решетчатые приводы включают червячные передачи с шаговым двигателем, приводы с синусоидальными стержнями, а также гальванометрические системы.
Голографическая решетка
​Голографическая решетка представляет собой тип дифракционной решетки, образованной интерференционным интерференционным полем двух лазерных лучей, картина стоячих волн которых экспонируется на полированной подложке, покрытой фоторезистивным материалом.Фотолитографическая обработка экспонированного носителя приводит к получению узора из прямых линий с гладким синусоидальным поперечным сечением, в отличие от острых краев с традиционной линейчатой ​​решеткой. очень чувствительный аналитический метод для определения следовых количеств летучих элементов, таких как As, Bi, Sb, Se и Te. Получение гидрида элемента проводят в закрытом сосуде путем добавления восстановителя, такого как боргидрид натрия, к кислому образцу.Образовавшийся газообразный гидрид выбрасывается в плазму, где происходит распыление. Затем проводят многоэлементный количественный анализ обычным способом, сравнивая интенсивность излучения неизвестных образцов с известными калибровочными или эталонными стандартами. Генерация гидридов также может использоваться с АА с использованием специальной нагреваемой кварцевой ячейки вместо традиционной головки пламенной горелки.
Индуктивно связанная плазма (ИСП)
Высокотемпературный источник, используемый для генерации ионов в ИСП-ОЭС.Он образуется при направлении тангенциального (спирального) потока газообразного аргона между внешней и средней трубой кварцевой горелки. Нагрузочная катушка (обычно медная) окружает верхний конец горелки и подключается к ВЧ-генератору. Когда на нагрузочную катушку подается ВЧ-мощность (обычно 750–1500 Вт), переменный ток колеблется внутри катушки со скоростью, соответствующей частоте генератора. РЧ-колебания тока в катушке создают интенсивное электромагнитное поле в верхней части горелки.Когда газообразный аргон течет через горелку, к газу прикладывается искра высокого напряжения, в результате чего некоторые электроны отрываются от их атомов аргона. Эти электроны, подхваченные и ускоренные в магнитном поле, затем сталкиваются с другими атомами аргона, отрывая еще больше электронов. Эта ионизация аргона, вызванная столкновениями, продолжается в виде цепной реакции, разлагая газ на атомы аргона, ионы аргона и электроны, образуя так называемый «разряд с индуктивно связанной плазмой (ICP)» на открытом конце плазмы. факел.
Оптическая эмиссионная спектрометрия с индуктивно-связанной плазмой (ICP-OES)
​Многоэлементный метод, использующий индуктивно-связанную плазму для возбуждения атомов в основном состоянии до такой степени, что они испускают фотоны света с определенной длиной волны. , характеристика конкретного элемента. Количество фотонов, производимых на определенной длине волны элемента, измеряется с помощью спектрометра для разделения длин волн аналита и фотоночувствительной системы обнаружения (ФЭУ или CTD) для измерения интенсивности производимого сигнала излучения.Этот эмиссионный сигнал напрямую связан с концентрацией этого элемента в образце. Коммерческие приборы бывают двух конфигураций: традиционный радиальный вид, при котором плазма расположена вертикально и вид сбоку (боковой обзор), и осевой вид, при котором плазма располагается горизонтально и рассматривается с торца (концевой вид). при просмотре).
Предел обнаружения прибора (IDL)

Также называется пределом обнаружения (DL) или пределом обнаружения (LOD) серии из 10 повторных измерений холостого калибровочного сигнала на той же длине волны.​

​Время интегрирования:
​Это время, в течение которого детектору разрешено получать измерение интенсивности. Наиболее точные измерения проводятся при максимальной интенсивности на длине волны. Некоторые приборы, выполняющие поиск пика, не интегрируют фактический пиковый сигнал, а вместо этого рассчитывают измерение интенсивности путем подгонки кривой к множеству измерений, выполненных с интервалами длин волн по ширине пика.
​Коррекция межэлементной интерференции (IEC): 
Когда линии излучения двух разных элементов перекрываются на выходной щели, свет, измеренный детектором, становится измерением комбинации обоих сигналов. Нежелательный элемент мешает правильному анализируемому веществу на рассматриваемой длине волны и впоследствии считается «межэлементной интерференцией». Если длины волн, которые свободны от межэлементных помех для желаемого элемента, не могут быть найдены (при желаемых уровнях чувствительности), спектрометр аппроксимирует коррекцию («межэлементная коррекция») для удаления сигнала мешающего элемента. Это выполняется путем калибровки раствора, содержащего только мешающий элемент, на отдельной длине волны, и сравнения отношения концентрации на этой отдельной длине волны мешающего элемента с той, которая наблюдается на исходной длине волны желаемого элемента.Таким образом, каждый раз, когда мешающий элемент обнаруживается на отдельной длине волны, делается соответствующий пропорциональный вывод на желаемой длине волны анализируемого вещества. Некоторые спектрометры, такие как системы Echelle, менее подвержены межэлементным помехам из-за их высокой разрешающей способности.
​Внутренняя стандартизация (IS)
​Метод количественного анализа, используемый для корректировки изменений чувствительности к аналиту, вызванных изменениями концентрации и типа компонентов матрицы, обнаруженных в образце. Внутренний стандарт — это элемент, не являющийся аналитом, который добавляется в холостой раствор, стандарты и образцы перед анализом. Обычно к образцам добавляют два или три элемента внутреннего стандарта, чтобы охватить все интересующие анализируемые элементы во всем диапазоне длин волн. Для правильной работы очень важно, чтобы внутренние стандарты имели такой же потенциал возбуждения, что и аналиты, и чтобы они контролировались точно в одно и то же время (одновременно). Программное обеспечение регулирует концентрацию аналита в неизвестных образцах, сравнивая значения интенсивности элементов внутреннего стандарта в неизвестном образце со значениями в калибровочных стандартах.Поскольку ИСП-ОЭС подвержена многим помехам, связанным с матрицей и транспортом образца, внутренняя стандартизация считается необходимой для анализа большинства типов образцов.
​Лазерная абляция
​Техника пробоподготовки, в которой используется мощный лазерный луч для испарения поверхности твердого образца и подачи его непосредственно в систему ИСП-ОЭС для анализа. Он в основном используется для образцов, которые чрезвычайно трудно растворить, или для образцов, требующих анализа небольших пятен или поверхностных включений.Профилирование по глубине и растровые исследования поверхности также возможны с помощью системы лазерной абляции.
Линейный динамический диапазон
Линейный динамический диапазон — это диапазон концентраций, для которого элемент может быть откалиброван на определенной длине волны. Линейный динамический диапазон зависит от условий источника и детектора, последний из которых часто является ограничивающим фактором. Например, ФЭУ обычно обеспечивают линейный динамический диапазон 10 6 или выше, но твердотельные детекторы, такие как SCCD и CID, могут быть ограничены до 10 4 .Низкий линейный динамический диапазон вынуждает использовать меньшее время интегрирования, разбавление образца или использование альтернативных длин волн при выходе за пределы диапазона.
Нагрузочная катушка
Другое название ВЧ-катушки, используемой для создания плазменного разряда. См. «Сети согласования (RF)».
​Предел количественного определения (LOQ)
​Предел количественного определения – это самый низкий уровень, при котором во время анализа могут быть выполнены надежные измерения.Как правило, это примерно в три раза больше предела обнаружения. См. также Пределы обнаружения.
​Матричные помехи
​В основном в ICP-OES существует два типа матричных помех. Первый, и самый простой для преодоления, часто называется «эффект переноса пробы» и представляет собой физическое подавление сигнала анализируемого вещества, вызванное уровнем растворенных твердых веществ или концентрацией кислоты в пробе. Второй тип матричного подавления возникает, когда матрица образца влияет на условия возбуждения плазменного разряда, что приводит к различной степени подавления сигнала в зависимости от концентрации компонентов матрицы. Классический способ компенсации матричных помех в ИСП-ОЭС заключается в использовании внутренней стандартизации. См. «Внутренняя стандартизация».
Предел обнаружения метода (MDL)

Минимальная концентрация аналита, которая может быть идентифицирована, измерена и зарегистрирована с достоверностью 99%, что концентрация аналита больше нуля.

MDL измеряется путем обогащения холостой пробы реагента аналитом в концентрации, в 2–3 раза превышающей IDL.Затем этот раствор анализируют 7 раз, и стандартное отклонение концентрации аналита умножают на 3,14 (t-статистика Стьюдента для доверительного интервала 99%). Микроволновое расщепление: метод расщепления труднорастворимых твердых образцов с использованием микроволновой технологии. Обычно растворяющий реагент, такой как концентрированная минеральная кислота, добавляют к образцу в закрытом кислотостойком сосуде, содержащемся в специально разработанной микроволновой печи. Благодаря оптимизации параметров тока, температуры и давления сложные образцы можно растворять за относительно короткое время по сравнению с традиционными методами разложения образцов на горячей плите.
​Монохроматор
​Монохроматор представляет собой конструкцию спектрометра, используемую в последовательной ИСП, которая представляет детектору одну длину волны за раз.
Монохроматический свет
Обычно называется разделением белого света на его различные спектральные компоненты или длины волн.
​Небулайзер

​Небулайзер – это устройство для введения образца, которое создает мелкодисперсный аэрозоль раствора образца для доставки к источнику плазмы.Различные типы небулайзеров включают:

  • Распылитель типа Бабингтона (или с высоким содержанием твердых частиц): раствор пробы прокачивается через отверстие, расположенное в верхней части плоской круглой поверхности на одном конце небулайзера, откуда он движется (под действием силы тяжести) вниз по канавке (часто описываемой как «V-образная канавка»). В нижней части канавки находится еще одно отверстие, через которое выходит газ-носитель аргон, в результате чего образец образует аэрозоль. Этот распылитель обычно используется для доставки металлов износа в масляных растворах или для введения образцов, содержащих большое количество растворенных твердых веществ.
  • Концентрический ингалятор: Этот ингалятор состоит из двух концентрических трубок, которые сходятся очень близко (но не соприкасаются) на конце доставки. Образец прокачивается или свободно аспирируется через центральную трубку, а газ-носитель аргон вводится через внешнюю трубку. В результате образуется аэрозоль на нагнетательном конце.
  • Распылитель с поперечным потоком: Образец нагнетается в распылитель с поперечным потоком через отверстие, после чего он подвергается прямому сдвигу под воздействием быстроточного потока газа-носителя аргона, подаваемого под прямым углом к ​​потоку образца. , в результате чего он превратился в аэрозоль.
  • Распылитель с сеткой Hildebrand: Образец нагнетается через отверстие на сетку из тонкой проволочной сетки, после чего под воздействием быстро текущей струи газа-носителя аргона он превращается в аэрозоль. Это многоцелевой небулайзер, обычно используемый для водных процедур. Он также совместим с растворами плавиковой кислоты (HF).
​Микроконцентрический ингалятор ​Микроконцентрический ингалятор основан на конструкции концентрического ингалятора, но работает при гораздо более низких скоростях потока.Обычные небулайзеры имеют скорость забора пробы около 1 мл/мин при давлении газа аргона 1 л/мин, тогда как микроконцентрические небулайзеры обычно работают со скоростью менее 0,1 мл/мин и обычно работают при гораздо более высоком давлении газа, чтобы приспособиться к более низкому потоку пробы. ставки.
Ультразвуковой небулайзер
Ультразвуковые небулайзеры оснащены узлом преобразователя, содержащим пьезоэлектрический керамический материал, прикрепленный к тонкой кварцевой заготовке (часто называемой «кристаллом»).В то время как раствор образца капает на кристалл, керамический материал приводится в колебание небольшим ВЧ-генератором (обычно работающим на частоте около 1,4 МГц). Энергия, подаваемая на кристалл, приводит к тому, что образец превращается в сверхтонкое облако или туман. Этот туман сначала проходит через нагретую трубку, которая достаточно горячая, чтобы эффективно удалить большую часть растворителя из присутствующего аналита. Затем туман проходит через охлаждающую трубку, которая конденсируется и удаляет отделенный растворитель через самотек.Остающийся конечный продукт представляет собой сухой аэрозоль, который затем направляется непосредственно в горелку. Ультразвуковой небулайзер превосходит обычные небулайзеры по двум параметрам: во-первых, он гораздо более эффективен при подаче образца к горелке — эффективность 10 % по сравнению с 3 % для обычных пневматических небулайзеров. Во-вторых, при удалении растворителя происходит меньшее тушение плазмы, что обеспечивает более эффективное возбуждение внутри самой ИСП. Таким образом, ультразвуковые небулайзеры обычно обеспечивают 10-кратное улучшение по сравнению со стандартными пневматическими небулайзерами.
Нормальная аналитическая зона (NAZ)
​Это область плазмы, где возникает наиболее стабильное и полезное излучение аналита.​
Порядок (спектральный) по длине волны. Свет отдельных длин волн покидает решетку под определенными углами. Большая часть света уходит под определенным углом, чуть меньше — под чуть большим углом и так далее. Глядя на рассеянный решеткой белый свет, вы увидите серию спектральных «радуг».Эти радуги на самом деле представляют собой разные порядки света от решетки. Когда используется решетка Эшелле, эти порядки располагаются довольно близко друг к другу (фактически перекрываются), что позволяет использовать для измерения очень высокие порядки (обычно 20–120-й). Сортировочное устройство (обычно призма) разделяет порядки после того, как они приходят с решетки, обеспечивая эшелле-спектрометр (ICP) двумерным («X-Y») массивом результирующего света в его фокальной плоскости. Обычные решетки обычно используют только 1-4 порядки, которые не сортируются. Результирующий спектральный дисплей обычной решетки представляет собой линейный массив от самой короткой до самой длинной длины волны, в котором перекрываются световые лучи кратных порядков.
Спектрометр Пашена-Рунге
Это оптическая конструкция, используемая в эмиссионной спектроскопии, где крепление дифракционной решетки и выходные щели неподвижны и зафиксированы в положении относительно детектора. Традиционный монтаж ИСП-ОЭС осуществляется в виде круга Роуленда.​
​Охладитель Пельтье ​Термоэлектрическое охлаждающее устройство, использующее температурный градиент между двумя различными материалами для создания холодной среды.Он использует электрическую энергию через твердотельный тепловой насос для передачи тепла от материала на одной стороне устройства к другому материалу на другой стороне, создавая таким образом температурный градиент в устройстве (аналогично бытовой системе кондиционирования воздуха). ИСП-ОЭС обычно используются для охлаждения твердотельного детектора или системы ввода пробы.
Перистальтический насос
​Насос, в котором жидкость проталкивается через гибкую трубку волнами механических сокращений, обычно вызываемых серией роликов, перемещающихся по длине трубки.
Фотоумножители (ФЭУ)
ФЭУ — это один из типов детекторов, используемых в приборах для ИСП. При попадании падающего света ФЭУ генерирует ток, пропорциональный интенсивности входного света. Этот ток можно умножить на несколько порядков (обычно 6-8) и обработать как выходной сигнал считывающим устройством. Одновременные ICP используют массив фиксированных ФЭУ, оптимизированных для определенных длин волн. Последовательные ICP используют один или два широкодиапазонных ФЭУ для охвата всего спектра ICP.Сигнал от каждого ФЭУ имеет аналого-цифровой преобразователь (A/D), который преобразует ток в цифровой сигнал, регистрируя интенсивность как отсчеты, интегрированные за заданный период времени.
Пиксели
Это светочувствительные области на поверхности детектора с переносом заряда (CTD). Когда фотоны света попадают на поверхность детектора, каждый пиксель накапливает электрический заряд.
​Источник плазмы
​Обозначает радиочастотные аппаратные компоненты, создающие плазменный разряд, включая радиочастотный генератор, согласующую сеть, плазменную горелку и аргоновую пневматику.
Плазменная горелка
Другое название кварцевой горелки, которая используется для создания плазменного разряда. Плазмотрон состоит из трех концентрических трубок: внешней трубки, средней трубки и инжектора образца. Горелка может быть цельной, где соединены все три трубки, или иметь разборную конструкцию, при которой трубки и инжектор пробы разделены. Газ (обычно аргон), используемый для формирования плазмы (плазмообразующий газ), пропускают между внешней и средней трубами со скоростью 12–17 л/мин. Второй поток газа (вспомогательный газ) проходит между средней трубкой и инжектором проб со скоростью 1 л/мин и используется для изменения положения основания плазмы относительно трубки и инжектора. Третий газовый поток (газ распылителя), также со скоростью 1 л/мин, доставляет образец в виде мелкокапельного аэрозоля из системы ввода образца и физически пробивает канал через центр плазмы. Инжектор проб часто изготавливается из других материалов, помимо кварца, таких как оксид алюминия, платина и сапфир, если необходимо анализировать материалы с высокой коррозионной активностью.
Пневматический распылитель
Тип распылителя, использующий воздействие высокоскоростного потока газа на жидкость для создания аэрозоля.
Полихроматор
Полихроматор представляет собой конструкцию спектрометра для одновременной ИСП; он измеряет несколько длин волн одновременно. Полихроматический свет: обычно его называют белым светом, состоящим из нескольких длин волн.
Точность
Воспроизводимость набора измерений.Обычно выражается в виде стандартного отклонения (SD) при измерении необработанных выбросов или относительного стандартного отклонения (RSD) или коэффициента вариации (CV) при измерении единиц концентрации.
Спектрометр с продувкой/вакуумом
Спектрометр с продувкой непрерывно вытесняется внутрь газообразным азотом или аргоном или альтернативно вакуумируется (в вакуумной системе). Это удаляет кислород из системы, позволяя использовать длины волн излучения в короткой УФ-области спектра ICP (ниже 190 нм).Для определения серы только с двумя доступными длинами волн (180 и 182 нм) требуется продувочный или вакуумный спектрометр для анализа с помощью ICP.
Системы быстрого отбора проб
Это автоматизированные системы доставки, которые минимизируют время доставки пробы в систему ввода пробы, а также оптимизируют время вымывания после проведения аналитического измерения. Они предлагают довольно значительное увеличение пропускной способности проб по сравнению с традиционными автоматическими пробоотборниками.
ВЧ-генератор
ВЧ-генератор вырабатывает переменный ток высокой частоты для поддержания ионизированной аргоновой плазмы при температуре около 8000 °C. Две популярные конструкции ВЧ-генераторов включают конструкцию «настроенного генератора» (или «автономного генератора») и более старую конструкцию «управляемого кристаллом». Настроенный осциллятор меньше по размеру и более устойчив к вариациям сэмпла (органический и водный). Конструкция с кварцевым управлением намного крупнее и требует дорогостоящего электромеханического устройства согласования импеданса для управления уровнями мощности.Присущая конструкция настроенного генератора требует гораздо меньшей нагрузки на силовую лампу, увеличивая срок ее службы по сравнению с системой с кварцевым управлением. Для радиочастотной мощности обычно используются две частоты: 40,68 и 27,12 МГц. Хотя оба они обеспечивают одинаковую производительность, есть убедительные доказательства того, что 40,68 обеспечивает более высокую устойчивость к изменениям в матрицах выборки.
Радиальный вид
Радиальное расположение горелки ИСП позволяет спектрометру наблюдать за плазмой сбоку.Это классическое положение для просмотра ICP, и резак обычно располагается вертикально.
​Разрешение
​Разрешение или разрешающая способность является одной из наиболее важных технических характеристик в ИСП-спектрометрии. Он определяется как разница длин волн в нанометрах между соседними различимыми линиями излучения. Поскольку источник ICP возбуждает все атомы в образце, излучая очень сложные спектры, свет, исходящий от ICP, содержит множество дискретных длин волн, требующих разделения.Спектрометр разделяет белый свет на отдельные спектральные линии, так что каждая длина волны может быть интегрирована независимо. Чем выше разрешение спектрометра, тем ближе две линии могут быть расположены и проанализированы независимо друг от друга. Плохое разрешение требует использования неточных межэлементных поправок для учета спектрального перекрытия, что снижает точность. Общепризнанным фактом является то, что спектрометры на базе Echelle обеспечивают наилучшее доступное в настоящее время оптическое разрешение.
​Линейчатые решетки
​Линейчатые решетки представляют собой дифракционные решетки, в которых бороздки нанесены на поверхность зеркала с помощью алмазного режущего инструмента.
​Система ввода проб
​Часть прибора, которая подает жидкий образец в плазменную горелку в виде мелкокапельного аэрозоля. Он состоит из распылителя для создания аэрозоля, распылительной камеры, позволяющей только более мелким каплям достигать плазменного разряда (отбрасывая более крупные капли), и дренажной системы для удаления избыточной пробы в отходы. См. «Распылитель» и «Распылительная камера».
​Инжектор пробы
​Центральная трубка плазменной горелки, по которой проходит аэрозоль пробы и газ для распыления.Это может быть неотъемлемая часть кварцевой горелки или отдельная (разборная). Инжекторы проб могут быть изготовлены из различных материалов, таких как оксид алюминия, платина и сапфир, для анализа высококоррозионных материалов.
Помехи при транспортировке пробы
Термин, используемый для описания физического подавления сигнала аналита, вызванного компонентами матрицы в пробе. Помехи при транспортировке проб более выражены в случае проб с высоким содержанием растворенных твердых веществ, поскольку они менее эффективно переносятся через систему ввода пробы, чем пробы водного типа.
Скан
Скан представляет собой график зависимости интенсивности света от длины волны (в ICP), обычно с центром на определенной длине волны излучения. Сканирование чаще всего используется во время разработки метода для определения точек коррекции фона или проверки помех. Сканирование также может быть полезным в качестве инструмента количественного анализа.
Сканирующие спектрометры
Это последовательные спектрометры, в которых используется принцип механического или электрического перемещения дисперсионной оптики (обычно линейчатой ​​или голографической решетки) для выбора определенной длины волны света, соответствующей интересующему элементу.
​SCD Technology
​Усовершенствованной ПЗС-технологией является детектор с сегментированной матрицей с зарядовой связью (SCD), который был разработан для оптической системы Echelle определенного типа. Вместо использования традиционной ПЗС с сотнями тысяч пикселей, SCD был разработан с более чем 200 небольшими вспомогательными массивами, расположенными так, чтобы использовать преимущества 3-4 наиболее распространенных линий излучения 70 элементов, которые можно определить с помощью ICP-OES. . Поскольку каждый субмассив имеет свою собственную светочувствительную область, область хранения и выходную электронику, это позволяет адресовать и считывать отдельные субмассивы.Это означает, что в отличие от традиционной ПЗС-технологии, информация, хранящаяся в небольших вспомогательных массивах SCD, может быть быстро опрошена в любой последовательности или порядке. Однако, как и во всей ПЗС-технологии, заряд разрушается в процессе считывания. Кроме того, SCD имеет ограниченный («сегментированный») диапазон длин волн и может анализировать длины волн только в областях своих сегментов. В результате он аналитически слеп во всех других областях детектора.
Самопоглощение
​Поглощение интенсивного излучения аналита атомами или ионами того же анализируемого элемента в плазме.Самопоглощение происходит при высоких концентрациях аналита и обычно отвечает за определение максимальной линейной концентрации для сильных линий эмиссии аналита.
​Последовательный ICP
​Последовательный ICP измеряет элементы по одной длине волны за раз. Эта конструкция позволяет выбрать любую полезную длину волны ICP, что обеспечивает преимущество выбора длины волны, не подверженной потенциальным помехам, или для анализа редко анализируемых элементов.
Отношение сигнал-фон (S/B)
Отношение интенсивности сигнала аналита к его фоновому уровню на определенной длине волны. При рассмотрении шума фонового сигнала (стандартное отклонение сигнала) отношение S/B обычно используется как оценка предела обнаружения для этого элемента. См. «Предел обнаружения» и «Фоновый сигнал».
​Одновременная ICP
​Одновременная ICP измеряет все желаемые элементы в образце одновременно.​
​Прорези
​Прорези – это устройства формирования изображения или маскирования. Свет от источника ИСП проходит через входную щель, через оптику и через выходную щель на детектор. Чем больше щель, тем больше света проходит (что приводит к лучшей чувствительности детектора), но за счет снижения разрешения. См. «Разрешение» и «Дисперсия».
​Распылительная камера
​Распылительная камера представляет собой устройство, размещаемое между распылителем и источником распыления/возбуждения, функция которого заключается в разделении капель аэрозоля в соответствии с их размером и сглаживании колебаний в пробе. несущий газовый поток.Различные типы распылительных камер включают:
  • Циклонная распылительная камера: распылительная камера, работающая по принципу центробежной силы. Капли различаются по размеру с помощью вихря, создаваемого тангенциальным потоком аэрозоля пробы и газообразного аргона внутри распылительной камеры. Капли меньшего размера переносятся газовым потоком в инжектор пробы плазмотрона, а капли большего размера ударяются о стенки и выпадают через дренаж.
  • Распылительная камера с ударными шариками: Тип распылительной камеры, чаще используемый в атомно-абсорбционных спектрометрах.Аэрозоль из распылителя направляется на сферическую бусину, где при ударе образец разбивается на крупные и мелкие капли. Крупные капли выпадают под действием силы тяжести, а более мелкие направляются газовым потоком распылителя в инжектор образца плазменной горелки.
  • Распылительная камера Скотта: герметичная распылительная камера с внутренней трубкой внутри большей трубки. Проба аэрозоля из распылителя сначала направляется во внутреннюю трубку. Затем аэрозоль перемещается по всей длине внутренней трубки, где более крупные капли выпадают под действием силы тяжести в дренажную трубку, а более мелкие возвращаются между внутренней и внешней трубками, где они в конечном итоге попадают в инжектор образца плазменной горелки.
Спектральные интерференции
Общее название интерференций, которые вызывают спектральное перекрытие или сдвиг на интересующей длине волны анализируемого вещества или вблизи нее. Обычно это создается компонентом в матрице образца. В ИСП-ОЭС это обычно относится к способности прибора воспроизводить интенсивность сигнала калибровочных стандартов за фиксированный период времени без использования внутренней стандартизации.Краткосрочная стабильность обычно определяется как точность (в %RSD) 10 повторов многоэлементного раствора, измеренная в течение нескольких минут. Принимая во внимание, что долговременная стабильность определяется как точность (в %RSD) многоэлементного раствора за период времени 4–8 часов. Это также может относиться к стабильности калибровки длины волны, которая представляет собой способность спектрометра многократно повторять правильное положение длины волны каждый раз при проведении многоэлементного анализа.
Стандартные эталонные материалы (SRM)
Хорошо зарекомендовавшие себя эталонные стандарты, которые поставляются с сертифицированными значениями и соответствующими статистическими данными, которые были проанализированы с помощью других дополнительных методов. Их цель состоит в том, чтобы проверить достоверность аналитического метода, включая подготовку проб, методологию прибора и процедуры калибровки, чтобы получить результаты проб, которые являются максимально точными и точными и могут быть защищены при тщательном анализе.
Подматрица
Подматрица — это группа пикселей на матричном детекторе, которые стратегически расположены для измерения небольшого определенного диапазона длин волн.
Горелка
Горелка представляет собой устройство, состоящее из концентрических трубок (обычно кварцевых), которые содержат потоки аргона (хладагент или «внешний», вспомогательный или «плазменный» газ-носитель) к ИКП.Два распространенных типа горелок: «разборные», в которых можно разобрать все трубки (обычно для плавиковой кислоты), и «цельные» для всех других применений. См. разделы «Инжектор проб» и «Плазменная горелка».
Переходный сигнал
Переходный сигнал — это сигнал, который длится конечный период времени. Этот тип анализа, иногда называемый анализом с временным разрешением (TRA), представляет уникальные проблемы, не встречающиеся в более распространенном подходе к непрерывному вводу пробы через распыление.Некоторые примеры нестационарного сигнала включают в себя использование ICP-OES для анализа состава элементов с использованием методов хроматографического разделения, эксперименты с лазерной абляцией с пространственным разрешением, такие как профилирование по глубине или растрирование поверхности твердых образцов, а также проточный инжекторный анализ (FIA) с участием дискретных введение образцов в непрерывный поток раствора-носителя.Низкая УФ-область обычно составляет 165-200 нм, а глубокая УФ-область считается любой длиной волны ниже 165 нм, где многие галогены имеют чувствительные линии излучения.
​Высота обзора
​Вертикальное положение в плазме, где спектрометр просматривает эмиссию аналита. Для радиального ICP это число мм выше верхней части катушки нагрузки.
Калибровка длин волн
Механизм внутреннего позиционирования прибора для обеспечения правильной длины волны измеряется каждый раз

발효 양조 장비 시장 지역 개 요 2022-2027 | 규모 및 점유율 추정, 수익, 사업 전망, 성장 기회, 도전, 2027 년 까지 까지 잠재 적 이익 최종 저널 저널 산업 에 covid-19 의 영향 분석 을 추가 합니다추가.

발효 양조 장비 시장 — 통찰력:
글로벌 도시 화 의 사용 증가 다국 적 는 는 범위 양조 장비 양조 양조 양조 양조 장비 장비 장비 장비 장비 장비 장비 장비 장비 장비수 발효 양조 장비 시장 시장 에 보고서 는 정의, 개 요, 크기 분석, 시장 점유율 분석 질적 분석, 응용 및 지역 지도 지도 에 에 의한 을 제공 지역 지도 에 에 에 에 제공 제공 지도 에 에 에 에 의한 제공제공

@ www.precisionreports.co/enquiry/request-sample/19231697의 샘플 PDF를 얻으십시오

발효 양조 장비 시장 — 크기, 주식, 범위, 경쟁 풍경 및 세분화 분석:
발효 양조 장비 을 보고서 제품 유형 의 프로그램 세그먼트 세그먼트 하위 의 포함 한 한 세그먼트 세그먼트 세그먼트 개 개 개 개 개 개개 를 제공합니다. 이 보고서 는 COVID-19 의 성능 에 미치는 영향 시장 을 맞추고 현재 시장 제공 제공 시장 시장 조건 제공 을 을 제공 제공 제공 제공제공보고서 는 시장 역학 역학 영향 받는 글로벌 변화 및 에 대한 영향 를 공급망 수 수 에 대한 대한 수 수 수 수수 .

글로벌 발효 양조 장비 미래 의 주요 에서 의 의 미래 미래 위한 전략 에서 의 요약 되어 하기 하기 위한 에 요약요약 예측 기간 동안 동안 수많은 할 있으며 전략 이 번창 접근 할 가능성 이 이 우승 우승 접근 접근 접근 접근 도 도움 도움 이 이 보고서 보고서 도 확인도움

발효 양조 장비 시장 보고서에서 다루는 주요 선수는 다음과 같습니다.
Alfa Laval
GEA Group
Krones Group
Paul Mueller
Praj Industries
Ningbo Lehui International Engineering Equipment

이 보고서를 구입하기 전에 문의하십시오 – www.precisionreports.co/enquiry/pre-order-enquiry/19231697

발효 양조 장비 시장은 유형, 최종 사용 산업 및 응용 프로그램을 기반으로 분류됩니다. 다른 부문 의 성장 성장 시장 전반 에 걸쳐 널리 퍼질 퍼질 으로 예상 되는 다양 한 한 인자 와 되는 다양 지식 지식 된 된 된 분야 분야 분야 하는 하는 하는 하는 하는 하는 됩니다 이 이 이 이이하는

제품 유형을 기반으로 발효 양조 장비 시장은 다음과 같이 분류됩니다.
• 라거
• ЭЛЬ СТАУТ.
• 다른

보고서 는 다양 한 시장 세그먼트 및 사용자 응용 을 시장 에서 최종 최종 사용자 사용자 프로그램 연구 연구 최종연구 관련 소스로부터 중요한 데이터를 수집함으로써 보고서는 개별 시장 부문의 성장을 평가합뤈닕. 또한 각 부문의 시장 규모와 성장률이 보고서에 설명되어 있습니다. 이 보고서는 주요 지리적 세그먼트를 고려하고 시장 성장을 위해 모든 유리한 조건을 설명다닕.

최종 사용자 / 애플리케이션을 바탕으로 발효 양조 장비 시장은 다음과 같이 분류됩니다.
• Крафтовая пивоварня
• Микропивоварня.
• Пивная.
• 다른

보고서 의 국가 섹션 국가 국가 수준 시장 시장 규제 동향 동향 및 및 시장 규제 포함 을 을 미치는 시장 시장 시장 포함 포함 포함 포함 영향 포함 포함 포함 포함포함

지리적 지리에 근거하여 발효 양조 장비 시장은 다음과 같이 분류됩니다.
— 북미 [미국, 캐나다, 멕시코]
— 유럽 [독일, 영국, 프랑프랑, 러시아, 이탈리아, 나머지 유럽]
— 아시아 태평양 [중국, 인도, 일본, 한국, 동남아시아, 호주, 아시아 태평양 지역]
— 남아메리카 [브라질, 아르헨티나, 남아메리카 남아메리카]
— 중동과 아프리카 [GCC, 북 아프리카, 남아프리카 공화국, 나머지 중동 및 아프리카]

발효 양조 장비 시장 — COVID-19 영향 및 회복 분석:
우리 는 이 시장 에서 covid-19 의 직접 적 인 영향 과 추적 산업 산업 간접 적 영향 을 추적 추적 해 왔다 왔다 왔다 인 을 추적 추적 해 왔다 왔다해.이 보고서는 발효 양조 장비 시장에서 전 세계적 및 지역적 관점에서 전염병의 영향을 분섋다다. 이 보고서 는 유형 유형 발효 발효 소비자 소비자 부문별로 시장 규모 규모 설명 규모 설명 을 설명 설명 설명 설명 설명 설명 설명 설명 설명 설명설명. 또한 COVID-19 전염병 전후의 시장 개발에 관여하는 측면에 대한 포괄적 인 분석을 제공합니다. 보고서는 또한 주요 영향력과 장벽을 공부하기 위해 업계에서 Pestel 분석을 실시했습니다.

COVID-19 영향 이이 보고서 에서 어떻게 다루는지 이해 이해 보고서 보고서 에서 어떻게 다루는지 이해 하려면 @ www.precisionReports.co/enquiry/request-covid19/19231697 의 샘플 복사본 을 을 얻으십시오.

발효 양조 장비 시장 — 운전자 및 구속:
연구 보고서 는 시장 성장 을 주는 다양 다양 한 한 요인 제공 제공제공 시장을 양수 또는 음성 방향으로 변경하는 트렌드, 제약 및 충동을 만듭니다. 이 섹션에서는 미래 시장에 영향을 줄 수있는 다양한 세그먼트와 응용 프로그램에 대해서독 해서독이 보고서에는 운전자를 비교하는 포괄적 인 경계 조건 평가가 포함되어 있으며 전략 실적 계볚윍.

이 보고서 에 대해 고려 된 수년간 수년간:
— 역사 적 년: 2016-2020
— 기본 년: 2020
— 예상 연도: 2021
— 예측 기간: 2021-2027

보고서가 무엇을 제공 해야하는지?
— 시장 규모 추정치: 이 보고서 는 가치 및 부피 측면 에서 에서 규모 대한 하고 신뢰 할 할 할 있는 을 을 제공 신뢰신뢰 생산, 유통 및 공급망과 같은 측면 및 발효 양조 장비 시장의 수익도 보고서에서 강조 표시다됤.
– 시장 동향 분석: 이 부분에서는 다가오는 시장 동향과 개발이 면밀히 조사되었습니다.
— 성장 기회: 여기 에 있는 보고서 는 양조 장비 장비 시장 에서 에서 제공 에 자세한 자세한 정보 를 고객 고객 제공 제공대한
— 지역 분석: 이 섹션 에서 에서 잠재 적 인 지역 을 것 입니다 적 적 인 을 을 것 입니다 분석 분석 는 최종 사용자 사용자 사용자 성장 제품 제품 유형 유형 및 성장 핵심핵심 에 초점을 맞 춥니 다.
— 공급 업체 풍경: 보고서 에서 을 내릴 수 있도록 더 잘비즈니 갖추어 을 을 수 있도록 더 잘비즈니

여기에 보고서의 샘플 사본을 요청하십시오 – www.precisionreports.co/enquiry/request-sample/19231697

구매 해야 하는 주요 이유:
— 시장 에 대한 통찰력 통찰력 적 을 세계 세계 과 상업 적 적 환경 환경 대한 적 인 이해 를 돕는를
– 주요 문제 및 해결책을 평가하십시오.
– 시장에서 가장 큰 영향을 미치고 억제력을 이해하고 세계 시장에서의 영향을 이해합니다.
– 알아보십시오.
– 미래의 전망과 시장에 대한 전망을 이해합니다.
– 표준 구조 보고서 외에도 특정 요구 사항에 따라 맞춤 연구를 제공합니다.

단일 사용자 라이센스 가격 3900 долларов США (три тысячи девятьсот долларов США)

발효 양조 장비 시장 — 테이블 콘텐츠 (TOC) 의 주요 점
1 발효 양조 점 시장 시장 개 요
제조 업체 에 의한 2 시장 경쟁
3 지역별 3 생산 및 용량
4 지역별 4 개 의 글로벌 발효 양조 장비 소비
5 생산, 수익, 유형별 가격
6 에 의한 소비 소비 분석
7 핵심 회사 프로파일 링
8 발효 양조 장비 제조 비용 분석
9 마케팅 채널, 유통 업체 및 고객
10 시장 다이나믹다이나믹
12 생산 및 공급 예측
유형 및 신청 별 예측 (2022-2027)
14 연구 결과 및 결론
15 방법론 및 데이터 소스

계속되는…. .

발효 양조 장비 시장의 통찰력 및 예측의 자세한 TOC 찾아보기 – www.precisionreports.co/TOC/19231697

발효 양조 장비 시장 — 연구 방법론
핵심 연구 방법론 은 데이터 및 지식 지식 의 을 포함 포함 첫 번째 측량 을 을 을 포함 하는 하는 삼각 측량 을 포함 포함 하는하는 데이터 수집 및 기본 연도 분석은 큰 샘플 크기가있는 데이터 수집 모듈을 사용하여 완료됩. 시장 데이터는 시장 통계 및 일관성 모델을 사용하여 분석 및 예측됩니다. 또한 시장 점유율 분석 및 주요 분석은 시장 보고서 내의 주요 성공 요인입니다.

Подробнее Отчеты:
— Рынок генераторов, управляемых гармоническим напряжением = www.newschannelnebraska.com/story/44577133/harmonic-voltage-control-oscillator-market-growth-2021-by-size-share-trends-evaluation-global-growth -потребление-потребитель-спрос-недавний
– Хомуты для шлангов с червячным приводом Рынок = www.newschannelnebraska.com/story/45322937/червячный привод-хомуты-рынок-размер-2021-промышленность-доля-последние-тенденции-глобальные-бизнес-стратегии-covid-19-воздействие-анализ-развитие-вызовы-топ
– Осушитель хлорида кальция = www.marketwatch.com/press-release/global-calcium-chloride-desiccant-market-with-emerging-trends-2021-top-key-players-updates-business-growing-strategies-competitive-dynamics -industry-segmentation-and-procast-to-2026-2021-12-10
– Рынок средств от сухости во рту = www. wicz.com/story/445/global-dry-mouth-relief-market-2021-for-regional -trends-impact-of-covid-19-on-industry-size-with-cagr-of-36-global-analysis-development-status
— Люминесцентная краска = www.marketwatch.com/press-release/luminescent-paint-market-size-2021-new-business-opportunities-with-covid-19-effect-growth-drivers-latest-trends-future-demand-analysis-by-top- ведущий-игрок-до-прогноза-2027-2021-11-03- Рынок плазменных резаков = www.newschannelnebraska.com/story/44515265/plasma-cutting-torches-market-size-2021-industry-share-recent-trends -growth-opportunities-business-boosting-strategies-covid-19-impact-analysis
– Бостонский рынок круглых бутылок = www.newschannelnebraska.com/story/45267200/boston-round-bottles-market-share-size-insights-2021 -movements-by-key-findings-industry-impact-latest-trend-analysis-progression-status-revenue
– Пневматический доклевеллер = www.marketwatch.com/press-release/air-powered-dock-leveler-market-size-share-2021—global-business-review-key-findings-company-profiles-growth-strategy-developing-technologies-trends-and- прогноз-по-регионам-2021-12-02
– Рынок машин для измерения круглости и цилиндричности = www. wicz.com/story/44809805/roundness-and-cylindricity-measuring-machines-market-size-and-segments-2021- движущие факторы роста-возможностей-производителей-настоящее-и-будущее
– Ветеринарные лекарства и вакцины = www.marketwatch.com/press-release/global-veterinary-medicines-and-vaccines-market-emerging-growth-2021-top-key-players-business-insights-with-covid-19-impact-swot-analysis-production- Capacity-estimates-and-forecast-2027-2021-11-03
– Глицирризин (CAS: 1405-86-3) Market = www.newschannelnebraska.com/story/44392648/global-glycyrrhizine-cas-1405-86-3 -рынок-2021-размер-отрасли-развивающиеся-ключевые-факторы-роста-предстоящие-тенденции-ключевые-игроки-будущее-технологии-производство

Почтовая навигация

Обзор рынка умных ворот к 2029 году

Нью-Джерси, США,   Отчет об исследовании рынка, недавно добавленный в репозиторий проверенных отчетов о рынке, представляет собой углубленный анализ рынка Smart Gate  . Основываясь на историческом анализе роста и текущем сценарии рынка Smart Gate, отчет призван предоставить полезную информацию о прогнозе роста мирового рынка. Достоверные данные, представленные в отчете, основаны на результатах обширных первичных и вторичных исследований. Понимание, полученное из данных, является отличным инструментом, который обеспечивает более глубокое понимание различных аспектов рынка Smart Gate. Это также помогает пользователю в его стратегии развития.

В этом отчете рассматриваются все ключевые факторы, влияющие на рост рынка Smart Gate, включая сценарий спроса и предложения, структуру ценообразования, размер прибыли, производство и анализ цепочки создания стоимости.Оценка регионального рынка Smart Gate открывает множество неиспользованных возможностей на региональных и национальных рынках. Подробное профилирование компании позволяет пользователям оценить анализ акций компании, новые линейки продуктов, выход NPD на новые рынки, стратегии ценообразования, инновационные возможности и многое другое.

Получить полную копию отчета в формате PDF: (включая полное оглавление, список таблиц и рисунков, диаграмму)

Ключевые игроки, упомянутые в отчете об исследовании рынка Smart Gate:

Thales Group, Siemens AG, Garmin Ltd, Kapsch Trafficcom, Tomtom International BV, Q-Free ASA (Норвегия), Denso Corporation, Efcon AG, Lanner Electronics, Savari Inc., Transcore Inc., Iteris Inc., Atkins Group, Рикардо

Сегментация рынка Smart Gate:

По типу продукции рынок в основном делится на:

• Идентификация пароля
• Идентификация карты
• Биометрическая идентификация

По применению этот отчет охватывает следующие сегменты:

• Деловой
• Промышленный
• Семейный

Рынок Smart Gate сегментирован по типу продукта, применению и географии.Все сегменты рынка Smart Gate тщательно анализируются на основе их доли рынка, CAGR, роста стоимости и объема и других важных факторов. В отчете также представлены точные оценки CAGR, выручки, производства, продаж и другие расчеты для рынка Smart Gate. Каждый региональный рынок тщательно изучается в отчете, чтобы объяснить, почему одни регионы развиваются высокими темпами, а другие — низкими. Мы также предоставили анализ пяти сил Портера и PESTLE для более глубокого изучения рынка Smart Gate.

Получите скидку при покупке этого отчета @ https://www.verifiedmarketreports.com/ask-for-discount/?rid=568273

Обзор рынка Smart Gate

АТРИБУТЫ ДЕТАЛИ
РАСЧЕТНЫЙ ГОД 2022
БАЗОВЫЙ ГОД 2021
ПРОГНОЗНЫЙ ГОД 2029
ИСТОРИЧЕСКИЙ ГОД 2020
БЛОК Стоимость (млн/млрд долларов США)
ЗАКРЫТЫЕ СЕГМЕНТЫ типов, приложений, конечных пользователей и т. д.
ПОКРЫТИЕ ОТЧЕТА Прогноз доходов, рейтинг компании, конкурентная среда, факторы роста и тенденции
ПО РЕГИОНАМ Северная Америка, Европа, Азиатско-Тихоокеанский регион, Латинская Америка, Ближний Восток и Африка
ОБЛАСТЬ НАСТРОЙКИ Бесплатная настройка отчета (эквивалентно 4 рабочим дням аналитика) при покупке. Добавление или изменение охвата страны, региона и сегмента.

Географический сегмент, охваченный отчетом:

Отчет Smart Gate предоставляет информацию о рынке, который далее подразделяется на субрегионы и страны/регионы.В дополнение к доле рынка в каждой стране и субрегионе, эта глава данного отчета также содержит информацию о возможностях получения прибыли. В этой главе отчета упоминается доля рынка и темпы роста каждого региона, страны и субрегиона в течение расчетного периода.

• Северная Америка (США и Канада)
• Европа (Великобритания, Германия, Франция и остальные страны Европы)
• Азиатско-Тихоокеанский регион (Китай, Япония, Индия и остальные страны Азиатско-Тихоокеанского региона)
• Латинская Америка (Бразилия , Мексика и остальная часть Латинской Америки)
• Ближний Восток и Африка (ССЗ и остальная часть Ближнего Востока и Африки)

Ответы на ключевые вопросы в отчете:

1. Какие пять ведущих игроков на рынке Smart Gate?

2. Как изменится рынок Smart Gate в ближайшие пять лет?

3. Какой продукт и приложение займут львиную долю рынка Smart Gate?

4. Каковы движущие силы и ограничения рынка Smart Gate?

5. Какой региональный рынок покажет наибольший рост?

6. Какими будут среднегодовой темп роста и размер рынка Smart Gate в течение прогнозируемого периода?

Для получения дополнительной информации, запроса или настройки перед покупкой посетите веб-сайт @ https://www.Verifiedmarketreports.com/product/smart-gate-market-size-and-forecast/

Визуализация рынка Smart Gate с помощью проверенной рыночной аналитики: —

Verified Market Intelligence — это наша платформа с поддержкой BI для повествовательного повествования об этом рынке. VMI предлагает подробные прогнозы тенденций и точную информацию о более чем 20 000 развивающихся и нишевых рынках, помогая вам принимать важные решения, влияющие на доход, для блестящего будущего.

VMI предоставляет целостный обзор и глобальную конкурентную среду в отношении региона, страны и сегмента, а также ключевых игроков на вашем рынке.Представьте свой отчет о рынке и результаты с помощью встроенной функции презентации, которая сэкономит более 70% вашего времени и ресурсов для инвесторов, продаж и маркетинга, исследований и разработок и разработки продуктов. VMI обеспечивает доставку данных в форматах Excel и Interactive PDF с более чем 15 ключевыми рыночными индикаторами для вашего рынка.

Визуализация рынка Smart Gate с помощью VMI @ https://www.verifiedmarketresearch.com/vmintelligence/

Самые популярные отчеты

 

Объем мирового рынка машин для производства ламповой сажи и прогноз

Объем мирового рынка тестеров электрических приборов и прогноз

Объем мирового рынка рециркуляционных чиллеров и прогноз

Объем мирового рынка пластиковых формовочных машин и прогноз

Размер мирового рынка Smart Gate и прогноз

Объем мирового рынка биохимических инкубаторов и прогноз

Размер мирового рынка встряхивающих столов и прогноз

Объем мирового рынка генераторов термостатов и прогноз

Объем мирового рынка воздухонагревателей и прогноз

Размер мирового рынка воздушно-плазменной резки и прогноз

 

О нас: Проверенные отчеты о рынке

Verified Market Reports — ведущая международная исследовательская и консалтинговая фирма, обслуживающая более 5000 клиентов по всему миру. Мы предоставляем передовые решения для аналитических исследований, а также предлагаем исследования, обогащенные информацией.

Мы также предлагаем информацию о стратегическом анализе и анализе роста, а также данные, необходимые для достижения корпоративных целей и принятия важных решений о доходах.

Наши 250 аналитиков и малых и средних предприятий предлагают высокий уровень знаний в области сбора данных и управления с использованием промышленных технологий для сбора и анализа данных по более чем 25 000 высокоэффективных и нишевых рынков. Наши аналитики обучены сочетать современные методы сбора данных, превосходную методологию исследования, знания и многолетний коллективный опыт для проведения информативных и точных исследований.

Наши исследования охватывают множество отраслей, включая энергетику, технологии, производство и строительство, химию и материалы, продукты питания и напитки и т. д. Обслуживая многие организации из списка Fortune 2000, мы предлагаем богатый и надежный опыт, который охватывает все виды исследовательских потребностей.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *